EUV 極紫外光微影設備全球唯一供應商，先進製程 3nm 以下不可或缺。High-NA EUV 下一代技術提供長期成長動能，中國出口禁令限制部分銷售但台韓訂單充裕，壟斷地位無可撼動。
提供半導體製造所需蝕刻、微影、沉積設備，受全球晶片擴產資本支出帶動。
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